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单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H

文章出处:武汉去离子设备公司网责任编辑:武汉水处理工程师发表时间:2018-12-03 18:01点击:

  莱特莱德武汉水处理设备公司除了生产单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H,还生产光通信用生产用去离子设备,采用的先进的配置元件,设备的出水质量,满足了不同行业的用水需求,水质达到了质量体系的认证,莱特莱德武汉水处理设备公司提供单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H的详细介绍。

去离子设备
去离子设备

  一、单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H工艺大致可分为

  第一种:采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水,一般通过之后,出水电导率可降到10us/cm以下,再经过混床就可以达到1us/cm以下了。但是这种方法做出来的水成本极高,而且颗粒杂质太多,达不到理想的要求。目前已较少采用了。

  第二种:预处理(即砂炭过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺。这种方法是目前采用多的,因为反渗透投资成本也不算高,可以去除90%已上的水中离子,剩下的离子再通过混床交换除去,这样可使出水电导率0.06左右。这样是目前流行的方法。

  第三种:前处理与第二种方法一样使用反渗透,只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替,这样就不用酸碱再生树脂,而是用电再生。这就彻底使整个过程无污染了,经过处理后的水质可达到15M以上。但这这种方法的前期投资比较多,运行成本低。根据各公司的情况做适当的投资。

去离子水处理设备
去离子水处理设备

  二、单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H工艺说明

  1、离子交换树脂制备去离子水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:

  原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→阳床→阴床→混床→后置保安过滤器→用水点(特点:污染比较大,自动化程度低,初期投入低)

  2、反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备去离子水的方式,其基本工艺流程为:

  原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→混床→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点(特点:污染小,自动化程度高,初期投入中等,价格适中)

  3、反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备去离子水的的方式,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:

  原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点(特点:环保,自动化程度高,初期投入大,价格相对比较贵)

半导体用去离子设备
单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H

  三、单晶硅半导体用去离子水设备—50T/H应用范围

  1、电子材料加工、单晶硅半导体、半导体材料、液晶显示器、计算机硬盘、印刷电路板、集成电路。

  2、LCD、EL、PDP、TFT、玻壳和显像管。

  3、超纯材料和超纯化学剂导纤维和光盘。

  4、汽车、家电表面电泳漆清洗用水及其它高科技精密产品。

  莱特莱德武汉水处理设备公司成立多年以来,所有员工秉承“兢兢业业做事、实实在在做人”的宗旨,在每个岗位上都尽职尽责,从可行性研究到工程设计、工程预算、设备制造、工程建设、设备安装与调试及售后的每一个环节,都体现了公司“以人为本、客户为先”的服务理念,目标就是给用户提供值得信赖的工程设计与技术支持,并提供可靠、高性价比的系统解决方案。