您好,欢迎您进入莱特莱德(武汉)水处理设备公司

武汉水处理设备

莱特莱德客户值得信赖的服务商
研发、设计、制造三位一体化的企业
全国解决方案定制热线
国内38个省市设立售后服务站 打造一流的水处理环保企业

当前位置:首页 > 水处理设备 > 超纯水设备 >

半导体清洗用超纯水设备——LTLD系列

文章出处:武汉超纯水设备公司网责任编辑:武汉水处理工程师发表时间:2018-12-03 20:22点击:

  一、半导体清洗用超纯水设备概述

  半导体清洗用超纯水设备主要应用在半导体清洗行业,该设备采用先进的反渗透技术和EDI技术,设备的质量和出水水质。该设备整体采用先进的不锈钢材质,抗腐蚀能力强,同时也不会出现生锈问题,质量可靠,受到用户的一致好评。

超纯水设备

  二、半导体清洗用超纯水设备工作原理

  EDI装置将离子交换树脂充夹在阴/阳离子交换膜之间形成EDI单元。EDI工作原理如下图所示。EDI组件中将一定数量的EDI单元间用网状物隔开,形成浓水室。又在单元组两端设置阴/阳电极。在直流电的推动下,通过淡水室水流中的阴阳离子分别穿过阴阳离子交换膜进入到浓水室而在淡水室中去除。而通过浓水室的水将离子带出系统,成为浓水. EDI设备一般以反渗透(RO)纯水作为EDI给水。RO纯水电导率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI纯水电阻率可以高达18 MΩ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置,EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的纯水。

  三、半导体清洗用超纯水设备制备工艺

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(传统工艺)

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥18MΩ.CM)(新工艺)

  3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥17MΩ.CM)(新工艺)

  4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(新工艺)

  5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点。(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

超纯水处理设备

  四、半导体清洗用超纯水设备的应用领域

  电解电容器生产铝箔及工作件的清洗。

  电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水。

  黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水。

  生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液。

  晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片。

  集成电路生产中高纯水清洗硅片。

  半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水。

  半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗。

  高品质显像管、萤光粉生产。

  汽车、家电表面抛光处理。

  以上是半导体清洗用超纯水设备的相关信息,想要更加了解设备的内容,欢迎用户前来咨询。莱特莱德是一家专业的水处理设备生产厂家,我们拥有先进的生产技术,引进先进的科技,设备的质量和出水水质。